CAS: 12024-14-5; Gallium Telluride

该化合物是一种二进制化合物,由和组成,以其半导体特性为显著特征,通常在层结构中结晶,有助于其厌食性电和光学特性.GaTe展示了直接带宽,适合光检测器和光导发射装置等光电子应用.该材料的特点是其高热稳定性,与其他半导体相比熔点相对较低.GaTe可以通过各种方法合成,包括化学蒸气运输和固态反应.其电导性可以通过剂量改变,允许有针对性的电子特性.此外,GaTe在二维材料领域展示了希望,有可能在灵活的电子设备和先进的光学设备中应用.然而,由于的毒性和实验室环境中需要适当的安全措施,处理GaTe需要谨慎小心.总的来说,是现代半导体技术领域的重要材料.

结构式图片

欧盟法规

ECHA物质C&L通报REACH预注册

合成工艺路线路线简述

    专利信息


    专利号:KR-20200113238-A
    优先权日:2018-01-22
    标题:Large-scale synthesis of 2D semiconductors by epitaxial phase transition

    专利号:EP-3898887-B1
    优先权日:2019-02-05
    标 题 :Methods for synthesis of inorganic nanostructures using molten salt chemistry

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