CAS: 12039-79-1; Tantalum Silicide (Tasi2)
该化合物是一种以高熔点和极好的热稳定性闻名的耐火化合物,适合高温应用,通常具有金属色素性,具有硬性和易碎性.TaSi2具有四角晶体结构,经常用于半导体工业,特别是用于制造集成电路,因为其有利于电导和耐氧化.此外,它是金属相互连接的一个扩散屏障.该化合物还因其良好的机械特性而著称,包括高强度和耐穿,使其在航空航天和其他高性能应用中具有价值.可采用多种方法合成硝酸盐,包括固态反应和化学蒸汽沉降.然而,处理需要谨慎,因为其具有与强氧化剂的潜在再活性,需要在工业环境中采取适当的安全措施.
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- 产品信息参考
;;;; - InChIKey: YIIDPCYGTVFRLP-UHFFFAOYSA-N
- InChI=1S/Si2.Ta/c1-2;/q-2;+2
- 计算化学: 氢键受体数*氢键供体数0.0可旋转键数0.0
物理性质
MSDS等安全信息
合成工艺路线路线简述
专利信息
专利号:US-5213730-A
优先权日:1988-10-06
标 题:Controlled combustion synthesis process for the production of silicide based composites
发明人：HIDA GEORGE T
权利人:BENCHMARK STRUCTURAL CERAMICS
摘要:There is disclosed a process in which a transition metal compound is mixed with silica until a specified density of intimate contact points is produced in the mixture. To this mixture is then added a reducing agent. Thereafter, a reinforcing agent is intimately dispersed throughout the mixture, the mixture is formed into a green body, and it then is ignited.
