CAS: 223673-35-6; (R)-(2-Hydroxy-2-Phenylethyl)(4-Nitrophenethyl)Carbamic Acid Tert-Butyl Ester

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(R)-2-(4-nitrophenylethylamino)-1-phenylethan-1-ol hydr°Chloride tert-butyl dicarbonatedi-tert-butyl dicarbonate (2R)-2-hydroxy-N-[2-(4-nitrophenyl)ethyl]-2-phenylethanamide (R)-Mandelic Acid

合成工艺路线路线简述

    📜D-扁桃酸置于sodium Tetrahydroborate,硼酸三甲酯,氨,N,N-二异丙基乙胺体系中,用 四氢呋喃,二氯甲烷,水,乙腈 用作溶剂,化学反应 35.17H,反应生成(N-叔-丁氧羰基-N-[(1'r)-羟基-1-苯基)乙基])-4-硝基苯基乙基胺
    参考文献:期间加入nabh的规模扩大的不明杂质的系统的调查显着的形成金额4-I 2的mirabegron硝基酰胺中间体的介导还原#
    标题:期间加入nabh的规模扩大的不明杂质的系统的调查显着的形成金额4-I 2的mirabegron硝基酰胺中间体的介导还原#
    摘要:在实验室规模成功开发了mirabegron(1)的制造工艺之后,在批量生产过程中出现了混乱的局面,其中硼氢化钠-碘(nabh 4-I 2)介导的硝基酰胺4还原结束在硝基胺中间体5中添加大量(〜10%)未指明的杂质.通过对结构的阐明和细致的研究,确定了其在生成过程中的反应路径,并提出了阻止其形成的有效机制.Nii 2(腐蚀产物)与nabh 4的反应原位生成的硼化镍(ni 2 B)随后发现thf(溶剂)的亲电腐蚀是形成杂质(8A)的原因.通过适当控制执行后续批次,可以制止这种杂质,并成功地为mirabegron提供了所需的质量.
    Doi:10.1021/acs.Oprd.9B00365

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    参考DOI号:10.1248/cpb.58.533
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