📜10-甲氧基亚氨基芪置于乙酸酐体系中,用 二氯甲烷 用作溶剂,化学反应 2.0H,反应生成N-甲酰基奥卡西平
参考文献:奥卡西平原料药潜在杂质的合成与表征:一种抗癫痫药
标题:奥卡西平原料药潜在杂质的合成与表征:一种抗癫痫药
摘要:奥卡西平是一种用于治疗癫痫的药物.在其大量合成过程中会观测到各种杂质的形成.在此,我们描述了四种潜在杂质的形成,合成和表征,即n-乙酰基奥卡西平,N-甲酰基奥卡西平,N-氨基甲酰基奥卡西平和奥卡西平二聚体.这些杂质列在几部药典中,将这些杂质控制在阈值水平以下是必不可少的.我们的研究将成为制定这些参考标准的指南.
Doi:10.1002/jhet.4281