CAS: 63370-90-1; Hafnium,2,2,6,6-Tetramethylheptane-3,5-Dione

该化合物是一个以-皮为特征的基于基的协调综合体,其特点是高热稳定性和高挥发性,适合用于氢氧化亚薄膜的化学蒸气沉降(CVD)和原子层沉降(ALD)过程;受到阻碍的四甲基替代悬浮剂强化了化合物对过早分解的抗药性,确保对胶片成分的精确控制和统一性;它与低温沉积技术和高纯度技术的兼容性使其成为先进的半导体和电镀层的首选前体;该化合物通常作为晶体固且具有一致的理学测量法,确保符合要求的沉积环境中的可靠性能.

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