CAS: 71363-70-7; 1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-Bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-Tridecafluorooctyl)Disiloxane

该化合物是一种硅氧烷化合物,其独特结构包括氟和硅氧烷成分.该物质具有硅氧烷(Si-O)元件的脊柱,有助于其热稳定性和灵活性.三十三氟乙烷基体的存在具有疏水和疏油特性,使其在需要水和石油阻燃剂的应用中有用.此外,氟化部分增强了化合物的化学抗药性和表面活动.该化合物通常用于特殊涂层,表面活性剂和各种工业应用中的润滑剂,其地表能低和高热稳定性使其适合在恶劣环境中使用.然而,由于与氟化合物有关的环境关切,其使用可能受到监管审查.

英文名称1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-Bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-Tridecafluorooctyl)Disiloxane
中文名称1,1,3,3-四甲基-1,3-双(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟辛基)二硅氧烷
IUPAC名称1,1,3,3-tetramethyl-1,3-bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)disiloxane
其它别名1,3-Bis(Tridecafluoro-1,1,2,2-Tetrahydrooctyl)Tetramethyldisiloxane; 1,3-Bis(1H,1H,2H,2H-Tridecafluoroooct-1-yl)-1,1,3,3-Tetramethyldisiloxane; 1,3-Bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-Tridecafluorooct-1-yl)-1,1,3,3-Tetramethyldisiloxane; Bis(Tridecafluoro-1,1,2,2-Tetrahydrooctyl)Tetramethyldisiloxane; Bis(1H,1H,2H,2H-Perfluoroooctyl)Tetramethyldisiloxane; [dimethyl(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-Tridecafluorooctyl)Silyl]Oxy-Dimethyl-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-Tridecafluorooctyl)Silane; 1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-Bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-Tridecafluorooctyl)Disiloxane; Disiloxane, 1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-Bis(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-Tridecafluorooctyl)-
CAS编号71363-70-7
MFCD编号:MFCD00270970
分子式:C20H20F26OSi2分子量:826.5
产品CID: 2497348
产品分类有机原料→分子砌块→脂肪链类化合物

相似结构搜索
InChIKey: TUKNJUVZUHUEOX-UHFFFAOYSA-N
InChI=1S/C20H20F26OSi2/c1-48(2,7-5-9(21,22)11(25,26)13(29,30)15(33,34)17(37,38)19(41,42)43)47-49(3,4)8-6-10(23,24)12(27,28)14(31,32)16(35,36)18(39,40)20(44,45)46/h5-8H2,1
计算化学: 氢键受体数1.0氢键供体数0可旋转键数16

相似化合物

83048-65-1 85857-16-5 85877-79-8

MSDS等安全信息

GHS符号GHS07
警示词Warning
危险描述H315-H319-H335
防范说明P261-P264-P271-P280-P302+P352-P304+P340-P362+P364-P405-P501
危险品标志Xi
风险等级Irritant
安全声明26-36
危险类别码36/37/38

合成工艺路线路线简述

📜四甲基二乙烯基二硅氧烷置于盐酸,Sodium Dithionite,碳酸氢钠,锌体系中,用水,异丙醇,甲苯,乙腈作为反应溶剂,化学反应 2.0H,反应生成二(十三氟-1,1,2,2-四氢辛基)四甲基二硅氧烷
参考文献:单电子转移反应合成具有c˭c和c-C桥连基团的全氟烷基硅氧烷
标题:单电子转移反应合成具有c˭c和c-C桥连基团的全氟烷基硅氧烷
摘要:图形摘要摘要全氟烷基碘与乙烯基硅氧烷在乙腈-水混合物中由连二亚硫酸钠引发的反应在温和条件下有效进行.结果,全氟烷基键合到硅氧烷末端或侧链的 C˭c 上.随后消除或减少 C-I 桥接基团在硅氧烷上产生相应的 Rfch˭ch-或 Rfch2Ch2-取代基团.所有氟硅氧烷均通过 Ft-Ir,1H NMR,19F NMR 和 Ei-Ms 进行表征.通过原子力显微镜和x射线光电子显微镜进一步观察了氟硅氧烷薄膜的形貌和微观结构.
DOI:10.1080/10426507.2014.965814