CAS: 12017-12-8; Cobalt Silicide (Metals Basis)

该化合物是一种具有立方晶体结构的半金属化合物,以其极佳的热稳定性,低电阻力和高熔点(~1277°C)闻名;它具有金属传导性,适合作为集成电路的接触材料用于微电子,特别是用于基于除虫剂的互连. CoSi2还表现出良好的氧化阻力和与硅基质的兼容性,确保高温应用的可靠性能.它的有利工作功能和微小的硅扩散进一步增强了其在半导体装置中的效用.此外,由于温度升高,热电材料中也使用钴除硫剂,因为它具有极好的热电特性.

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    合成方法参考DOI号:10.1016/j.jallcom.2017.07.119
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