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CAS: 12017-12-8; Cobalt Silicide (Metals Basis)
该化合物是一种具有立方晶体结构的半金属化合物,以其极佳的热稳定性,低电阻力和高熔点(~1277°C)闻名;它具有金属传导性,适合作为集成电路的接触材料用于微电子,特别是用于基于除虫剂的互连. CoSi2还表现出良好的氧化阻力和与硅基质的兼容性,确保高温应用的可靠性能.它的有利工作功能和微小的硅扩散进一步增强了其在半导体装置中的效用.此外,由于温度升高,热电材料中也使用钴除硫剂,因为它具有极好的热电特性.
英文名称
Cobalt Silicide (Metals Basis)
中文名称
硅化钴
其它别名
Cobalt Silicide; Cobalt Disilicide; Cobalt Silicide, (Metals Basis); Cobalt Silicide (Metals Basis); Titanium Carbonitride (Ticn) Sputtering Targets
CAS编号
12017-12-8
MFCD编号:
MFCD00016021
EINECS号:
234-616-8
分子式:
CoSi2
分子量:
115.1
产品CID:
267842
产品分类
无机化工 → 无机盐 → 硅化物及硅酸盐
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产品信息参考
;
;
;
InChIKey:
WBNQIYPBNCUDQP-UHFFFAOYSA-N
1S/Co.Si2/c;1-2/q+2;-2
计算化学:
氢键受体数
*
氢键供体数
0.0
可旋转键数
0.0
物理性质
熔点
1277 °C
沸点
1277 °C
密度
5.30
LogP:
-0.7616
溶解性
Soluble In Hot Hcl
敏感性
遵照规格使用和储存则不会分解。灰色粉末,立方系结晶,晶格常数a=0.535nm,CoSi2可与热的盐酸作用。
外观形态
灰色粉末
储存条件
密封保存于阴凉干燥环境处。
产品应用
该化合物用于生产和定性半导体中非常大规模集成应用的特性.
MSDS等安全信息
GHS符号
GHS07,GHS08
警示词
Danger
危险描述
H315-H317-H319-H334-H335
防范说明
P261-P280a-P284-P305+P351+P338-P405-P501a
安全声明
H303May be harmful if swallowed+H313Skin contact may be harmful+H333Inhalation may be harmful to the body
上下游产品
cobalt
silicon
cobalt(II)
iron
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合成参考文献
合成方法参考DOI号:
10.1016/j.jallcom.2017.07.119
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