CAS: 17475-68-2; Hafnium 1,1,1-Trifluoro-2,4-Pentanedionate

该化合物是一种金属-有机化合物,通常在化学蒸气沉降和原子层沉积过程中用作前体,其高度挥发性和热稳定性使其适合存放含薄膜,特别是在半导体和光学涂层应用中;氟离子增强其反应性并减少污染风险,确保高纯度薄膜形成;此外,其定义明确的分解特征可以精确控制沉积参数,提高再生性;该化合物在先进的电子产品中特别有用,因为基于的二电对高千门氧化层至关重要;建议由于湿度敏感,在惰性条件下进行适当处理.

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