CAS: 993-50-0; N-Methyl-N-Trimethylstannylmethanamine

该化合物是一种有机金属化合物,其特点是存在一个斯坦南胺功能组,其中包括一个与氮和多种甲基组结合的锡原子,该化合物通常由于附于氮和锡原子的五个甲基组,影响其反应性和稳定性,而表现出高度的不动障碍.锡原子的存在具有独特的特性,例如有机金属化学和材料科学的潜在应用.它可能还表现出具体的溶性特性,经常溶于有机溶剂中,而水溶性有限.该化合物的结构表明有可能在催化中或作为其他有机化合物合成中的前体使用.然而,由于锡的存在,有必要考虑环境和健康方面的影响,因为有机化合物可能是有毒的,并须接受监管审查.

英文名称N-Methyl-N-Trimethylstannylmethanamine
中文名称(二甲基氨基)三甲基锡
IUPAC名称N-methyl-N-trimethylstannylmethanamine
其它别名Stannanamine,pentamethyl- (9CI); Stannane, (dimethylamino)trimethyl- (8CI); Tin,(dimethylamino)trimethyl- (7CI); (Dimethylamino)trimethylstannane; (Dimethylamino)trimethyltin; (Trimethylstannyl)dimethylamine; Dimethyl(trimethylstannyl)amine; N,N-Dimethyl(trimethylstannyl)amine; Trimethyl(dimethylamino)stannane; Trimethyltin dimethylamide
CAS编号993-50-0
MFCD编号:MFCD00008298
EINECS号:213-610-9
FDA UNII编号:ADU53CNW3N
分子式:C5H15NSn分子量:207.89
产品CID: 2030624
产品分类有机原料 → 有机金属类化合物 → 有机锡

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产品信息参考;
InChIKey: HQFPMGPCIKGRON-UHFFFAOYSA-N
InChI=1S/C2H6N.3CH3.Sn/c1-3-2;;;;/h1-2H3;3*1H3;/q-1;;;;+1
计算化学: 氢键受体数1.0氢键供体数0.0可旋转键数1.0

MSDS等安全信息

GHS象形图
GHS符号GHS02 & GHS06 & GHS09;
注释: Flame & Skull and crossbones & Environment
危险类别易燃液体类别2
急性毒性类别2(吸入)
急性毒性类别1(经皮)
急性毒性类别2(经口)
水生急性毒性类别1
水生慢性毒性类别1
警示词Danger(危险)
危险描述H225 |高度易燃液体和蒸气.
H330 |吸入致命.
H310 |皮肤接触致命.
H300 |吞咽致命.
H400 |对水生生物毒性极大.
H410 |对水生生物毒性极大并具有长期持续影响.
防范说明P210-P233-P273-P280-P303+P361+P353-P304+P340+P310
危险等级3.1
UN编号UN 2924 3/PG 2
危险品标志T+,N,F
包装等级II
安全声明26-27-28-45-60-61
危险类别码26/27/28-50/53-11
WGK Germany2

欧盟法规

ECHA物质ECHA物质C&L通报REACH预注册

上下游产品

N,N,N,N,-tetramethylethylenediamine trimethyltin(IV)chloride lithium dimethylamide dimethyl amine 4-bromo-N,N-dimethyl-2,3,5,6-tetrafluoroaniline 4-(dimethylamino)-2,3,5,6-tetrafluorobenzonitrile N,N-dimethylmethacrylamide N,N,N'N'-tetramethyl malonamide

合成工艺路线路线简述

📜三甲基氯化锡,二甲胺置于正丁基锂体系中,用正己烷作为反应溶剂,化学反应 14.0H,反应生成 (二甲基氨基)三甲基锡
参考文献: Organometallic Compounds And Methods For The Deposition Of High Purity Tin Oxide[fr] Composés Organométalliques Et Procédés De Dépôt D'Oxyde D'étain De Haute Pureté
标题: Organometallic Compounds And Methods For The Deposition Of High Purity Tin Oxide[fr] Composés Organométalliques Et Procédés De Dépôt D'Oxyde D'étain De Haute Pureté
摘要:本文揭示了用于沉积高纯度氧化锡的化合物.还披露了使用这些化合物进行氧化锡薄膜沉积的方法.这些薄膜表现出高一致性,高刻蚀选择性并具有光学透明性.这些化合物的化学式如下:Rx-Sn-A4-X,其中:A选自(Yar'Z)和含有3至7个成员的含氮杂环基团的群;每个r基独立地选自具有1至10个碳原子的烷基或芳基群;每个r'基独立地选自具有1至10个碳原子的烷基,酰基或芳基群;x为0至4的整数;a为0至1的整数;y选自n,O,S和p的群;z为1(当y为o,S或y不存在时)或z为2(当y为n或p时).