CAS: 234443-21-1; 4-Bromo-3,3,4,4-Tetrafluorobutan-1-Ol

该化合物是一种卤化酒精,其特点是丁醇主骨上含有溴和氟替代物,这种化合物具有四碳链,含有氢氧(OH),具有酒精特性,以及多种氟原子,增强其反应力和影响其物理特性;溴的存在增加了其卤素含量,有可能影响其稳定性和在各种化学反应中的再活动;这种化合物通常由于强大的C-F联系而呈现低挥发性和高热稳定性;氟原子还有助于独特的溶剂特性,使其在特定应用中有用,包括作为有机合成中的试剂或作为其他氟化合物生产中的潜在中间体.此外,卤素的存在会影响化合物的环境行为,包括其持久性和生物累积潜力.在处理该物质时,安全因素至关重要,因为与卤化化合物相关的毒性.

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相似化合物

18599-20-7 222725-20-4 155957-60-1

合成工艺路线路线简述

    4-Bromo-3,3,4,4-Tetrafluorobutanoic Acid置于dimethyl Sulfide Borane体系中,用 四氢呋喃 用作溶剂,化学反应 4.0H,以84%的收率获得4-溴-3,3,4,4-四氟-1-丁醇
    参考文献:Cyclizations Of 5-Hexenyl,6-Heptenyl,7-octenyl,And 8-Nonenyl Radicals. The Kinetic And Regiochemical Impact Of Fluorine And Oxygen Substituents
    标题:Cyclizations Of 5-Hexenyl,6-Heptenyl,7-octenyl,And 8-Nonenyl Radicals. The Kinetic And Regiochemical Impact Of Fluorine And Oxygen Substituents
    摘要:Using Competition Kinetic Methodology,Rate Constants For Cyclizations Of A Series Of Hydrofluorocarbon (Hfc) And Ether 5-Hexenyl,6-Heptenyl,And 7-octenyl Radicals Have Been Determined. Remarkably Large Rate Constants (>10(7) S(-1)) Have Been Observed For 6-Exo-Cyclizations Of 1,1,2,2-Tetrafluoro-And 1,1,2,2,3,3,4,4,-octafluoro-6-Heptenyl Radicals (>10(3) Those Of Analogous Hydrocarbon Radicals),Whereas Hfc Hexenyl And Heptenyl Ethers Exhibit Lower Cyclization Reactivity,As Do Hfc 7-octenyl Radical Systems,Which Cyclize In An Endo Manner. Hfc 8-Nonenyl Radicals Were Not Observed To Cyclize. The Results Can Be Rationalized In Terms Of Transition State Polar Influences,Though Other Factors May Also Play Significant Roles.
    Doi:10.1021/jo990544N

    海关参考信息

    专利信息


    专利号:US-9255079-B2
    优先权日:2009-12-10
    标 题 :Photoacid generators and photoresists comprising same
    发明人:LI MINGQI; AQAD EMAD; LIU CONG; MATTIA JOSEPH; XU CHENG-BAI; BARCLAY GEORGE G
    权利人:LI MINGQI; AQAD EMAD; LIU CONG; MATTIA JOSEPH; XU CHENG-BAI; BARCLAY GEORGE G; ROHM & HAAS ELECT MAT
    摘要:New methods are provided for synthesis of photoacid generator compounds (“PAGsâ€?), new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such PAG compounds. In a particular aspect, sulfonium-containing (S+) photoacid generators and methods of synthesis of sulfonium photoacid generators are provided.

    专利号:US-9348220-B2
    优先权日:2010-03-31
    标 题 :Photoacid generators and photoresists comprising same
    发明人:AQAD EMAD; LI MINGQI; XU CHENG-BAI; LIU CONG
    权利人:AQAD EMAD; LI MINGQI; XU CHENG-BAI; LIU CONG; ROHM & HAAS ELECT MAT
    摘要:New methods are provided for synthesis of photoacid generator compounds (“PAGsâ€?), new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such PAG compounds. In a particular aspect, photoacid generators that comprise 1) a SO 3 − moiety; 2) one or more fluorinated carbons; and 3) one or more of the fluorinated carbons either directly or indirectly substituted by an ester keto group.
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