通过上述方法制备的聚硫脲类化合物具有如下结构通式:
其中,n为2-600的整数,R1,R2独立的为烷基或芳基,R3为芳基,R4为芳基.这类化合物具有优异的光学性能,特别是高折光指数,使其在光学器件和薄膜中具有广泛的应用潜力.
例如,通过实施例1制备的聚硫脲化合物P1,经薄膜制备和测试,其在633nm波长处的折光指数可达1.720,且在不同波长下仍保持较高的折光指数,显示出优异的光学性能.
聚硫脲类化合物在高折光指数薄膜和光学器件中具有广泛的应用.其制备的薄膜不仅折光指数高,而且具有优异的光学性能和机械性能,适用于制造高精度光学元件,显示屏,以及光学传感器等.
例如,通过实施例1到实施例5制备的聚合物P1-P5,其薄膜在633nm波长处的折光指数分别为1.720,1.743,1.789,1.735和1.800,厚度从118nm到164nm不等,充分展示了其在光学领域的应用潜力.