为了减少20(S)喜树碱的副作用,研究提出了通过化学修饰其分子结构的技术方案.修饰的主要目标是通过引入特定的官能团,改变其药代动力学和毒性分布,从而提高药物的安全性和有效性.本方案提供了一种高效合成方法,能够对20(S)喜树碱进行结构修饰,同时保证产物的高纯度和制备效率.
合成步骤如下:
S1:以4,5-二氟-2-硝基苯甲酸为起始原料,通过苄氧基取代苯环5号位的氟原子,生成化合物2.
S2:将化合物2中的苯环2号位的硝基还原为氨基,得到化合物3.
S3:对氨基进行保护,生成氨基衍生物化合物4.
S4:将化合物3中苯环上的羧基转化为WeInreb酰胺,生成化合物5.
S5:通过格氏试剂与WeInreb酰胺反应,生成相应的酮化合物6.
S6:通过钯碳加氢脱去保护基团,最终获得目标产物化合物7.